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    今天咱們來講述下關于光刻機的性能特點

    更新時間:2021-09-18      點擊次數:2680
    光刻機(Mask Aligner) 又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統等,是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術,把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。
    光刻機該機可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波長的極紫外光作為光源,用DMD數字微鏡陣列替代傳統掩模板,采用積木 錯位蠅眼透鏡實現高均勻照明。
    該機可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波長的極紫外光作為光源,用DMD數字微鏡陣列替代傳統掩模板,采用積木 錯位蠅眼透鏡實現高均勻照明,并配備了雙目雙視顯微鏡和CCD圖象對準系統(可同時使用),拼接獲得大面積圖形,曝光設定采用微機控制,菜單界面友好,操作簡便。
    光刻機的主要性能指標有:支持基片的尺寸范圍,分辨率、對準精度、曝光方式、光源波長、光強均勻性、生產效率等。
    分辨率是對光刻工藝加工可以達到的最細線條精度的一種描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以與光源、光刻系統、光刻膠和工藝等各方面的限制。
    對準精度是在多層曝光時層間圖案的定位精度。
    曝光方式分為接觸接近式、投影式和直寫式。
    曝光光源波長分為紫外、深紫外和極紫外區域,光源有汞燈,準分子激光器等。
    分類
    光刻機一般根據操作的簡便性分為三種,手動、半自動、全自動
    A 手動:指的是對準的調節方式,是通過手調旋鈕改變它的X軸,Y軸和thita角度來完成對準,對準精度可想而知不高了;
    B 半自動:指的是對準可以通過電動軸根據CCD的進行定位調諧;
    C 自動: 指的是 從基板的上載下載,曝光時長和循環都是通過程序控制,自動光刻機主要是滿足工廠對于處理量的需要。
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