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    DS-2000/14G型光刻機

    簡要描述:DS-2000/14G型光刻機該機可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波長的極紫外光作為光源,用DMD數字微鏡陣列替代傳統掩模板,采用積木 錯位蠅眼透鏡實現高均勻照明。

    • 產品型號:
    • 廠商性質:生產廠家
    • 更新時間:2024-06-04
    • 訪  問  量:2416

    詳細介紹

    品牌其他品牌價格區間面議
    儀器種類微流控芯片系統應用領域醫療衛生,環保,電子
    產品名稱:DS-2000/14G型光刻機
    主要技術指標:
    單次曝光面積:1.4mm×1mm;
    大曝光基片:100mm ×100mm ;
    對準精度:±0.8μm(半自動對準);
    大膠厚:300μm(SU8膠);
    自動逐場對焦;
    分辨力:1μm;
    X、Y、Z、θ四自由度電動位移臺 ;
    X、Y平移重復定位精度:0.65μm(3σ);
    Z向運動精度:1μm。
    DS-2000/14G型光刻機技術特點:
    該機可采用紫外光、深紫外光、甚至更短波長的極紫外光作為光源,用DMD數字微鏡陣列替代傳統掩模板,采用積木 錯位蠅眼透鏡實現高均勻照明,并配備了雙目雙視顯微鏡和CCD圖象對準系統(可同時使用),拼接獲得大面積圖形,曝光設定采用微機控制,菜單界面友好,操作簡便。


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